第611章 国产光刻机的研发进程，至少缩短了

  这玩意本质上是一套精密的多层膜镜子，可以高效捕获euv光源，并将其初步聚焦引导至照明系统里。

  难点主要有两个：收集效率和抗损伤能力。

  前者是因为euv光线是向四面八方发散的，若想提升收集效率，就得设计复杂的多镜拼接结构，同时保证每片镜子的角度校准精度都要达到微米级。

  然而，任何角度上的偏差都会导致光线漏失，从而影响到收集效率。

  后者是因为等离子光源被激发后，会产生极高的温度，这就需要超强的抗损伤能力。

  收集效率要求多层膜具备“薄、匀、纯、无遮挡”等特性，以最大化反射率和角度适配性。

  而抗损伤能力要求多层膜又得“厚、硬、耐侵蚀”，必须增加额外保护层的材料。

  听起来很矛盾，但这也正是收集镜的技术难点所在。

  陈延森设计的这套“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”，便很好地平衡了收集效率与抗损伤能力。

  不仅能够高效捕获由高功率脉冲放电、轰击金属锡靶产生的13.5纳米euv光，还能将其汇聚到远处的中间焦点，为后续的照明系统提供足够功率且均匀的光束。

  与此同时。

  林南很快就发现了这封加密邮件，在打开技术文档后，先匆匆扫了一眼，接着就愣在了原地。

  老板发来的这套方案太完整了，从光学设计的构型、入射角，再到基底材料、反射涂层、热管理子系统和电磁场碎屑减缓系统，甚至连镀膜工艺的参数表、误差校准的算法模型都附带在内。

  此前光学部争论了半个月的“多镜拼接角度偏差”问题，文档里直接给出了“激光干涉实时校准”的解决方案，就连校准用的激光波长、采样频率都标注得一清二楚。

  林南猛地站起身，声音都有些发颤：“这简直是把答案写了出来！”