第611章 国产光刻机的研发进程，至少缩短了

  第611章 国产光刻机的研发进程，至少缩短了十年！

  自从星源科技与华科协会下属的光电所，联手研发出了‘磁约束放电等离子体光源’（即mdp）技术后，便开始着手攻克光刻机的第二大技术壁垒——光学系统。

  毕竟，单是‘造出光’还不行，还得‘用好这束光’，才能完成晶圆曝光，进而实现芯片的生产制造。

  可让陈延森顿感无奈的是，国内euv光源激发方式的主流研发方向，基本以激光产生等离子体、放电等离子体或者激光诱导放电等离子体为主。

  而星源科技光学部绝大多数工程师的技能和项目经验，都与研发需求不匹配。

  所以在研发配套光学系统时，进度极为缓慢。

  要知道，euv光几乎会被所有物质吸收，因此无法使用传统的玻璃透镜，整个光路必须在真空环境中使用反射式光学系统。

  收集镜、照明系统、投影物镜系统、掩膜版和掩膜台都得设计配套的技术方案。

  mdp-euv光源技术确实走出了一条独特的新路，但这种创新并非没有代价。

  一切障碍，都要自己去扫平。

  陈延森在获悉光学部的研发进度后，立马就绝望了。

  他心里清楚，若不给这帮人指条明路，恐怕五年、十年，都没法往前迈出一步。

  不得不说，他高估了林南团队的水平。

  他没想到，这么简单的配套技术方案，林南等人却在正确的路口边缘，足足蹭了四五十天，却无丝毫进展。

  于是，陈延森在开发出脉思（mass）v1.0后，又马不停蹄地设计出了“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”。