第567章 你相信科研梦想吗
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  第567章 你相信科研梦想吗
  周六，又是一个大晴天，阳光透过树叶，铺洒在咖啡馆外的草坪上。
  许青舟见到了中大的郑旭教授，看起来三十多岁的模样，模样清隽，一看就知道是那种喜欢埋头实验，不善言辞的学者。
  “郑教授，请坐。”
  “您好，许教授。”
  郑旭坐下的同时也在观察许青舟，虽然在电视上看到过好几次，但首次见面，依旧会有点吃惊。
  年轻得可怕。
  年轻归年轻，这位许教授身上有一种不属于这个年龄的从容和沉稳。
  “郑教授，你曾经在美国slac国家加速器实验室工作过五年，我看了你在这个期间的论文，可以说非常精彩。同时，我还看了你去年的磁电物性分析与器件实验，差距很大，可以说是失败的实验。”
  许青舟翻看着手中的资料，沉声说道：“首先是材料稳定性问题，bifeo薄膜在多次电场循环后出现氧空位迁移，导致磁电耦合效率下降30%。其次是工艺兼容性限制，超薄多铁薄膜的均匀性与cmos工艺兼容性不足，良品率仅65%。”
  其实，许青舟超导薄膜上的专利技术就能用到郑旭的实验里，例如引用梯度掺杂技术，即la掺杂bifeo，就可以抑制氧空位迁移。
  保守估计，至少能让材料性能提升30%。
  “是的。”
  郑旭露出了落寞的表情，点头承认，懊恼地说：“实验的结果和我预想的相去甚远，甚至漏洞百出。”
  “您方便说说原因？”许青舟点点头。