第255章 厂会发难

  但是周志强加入进来后，他们在研发效率上异常的快，而周志强也经常会提出突破卡克的关键点。

  周志强闻言后笑着跟技术科其他人摆手，随后对赵成辉说道：“谢谢你了成辉同志，那咱们现在就去找刘厂长？”

  “先不着急，今天我肯定帮你跟瑞光同志说了，你先来看看这个。”

  赵成辉拿出一份记录文件，递给周志强后说道：“我们讨论了半天，虽然讨论出几个方向，但还没确定从哪下手。

  志强，你在半导体方面的研究也不弱，你有什么看法.”

  周志强接过来一看，上面密密麻麻的记录着各种关于温度、转速、时间参数下的角膜厚度测量值和均匀性标准差

  看得出来是做过不少次计算实验，但实验数值都不太理想，提升不大。

  而且赵成辉他们下一步应该是想琢磨改进涂胶设备或者胶体配方，但这个方向试验计算了不少，始终没什么成果。

  光改进这一个方向，就算成功了，提升也不会特别大。

  “方向可以换一个，成辉同志，或许你们可以从光刻的接触方式，原有的掩膜版和光刻胶的物理接触会摩擦损伤掩膜版的寿命。

  灰尘颗粒也会导致生产缺陷，胶膜更是在压力下变形，这些都是限制精度提升的原因，或许可以尝试分离开一段距离，但是不接近.”

  周志强将接下来准备研发的项目方向，详细的跟赵成辉他们讲了另一种光刻工艺。

  上次他想说来着，不过那时候时间紧任务重，能将硅晶管制造出来已经很不错了，之后还有集成电路要研发制造，所以光刻工艺就没关。

  但现在想要制造出专属复合加工数控机床的集成数控系统，就要高性能的集成电路.光刻工艺的提升也是避不可免的。

  周志强一边说还一边拉过来一份黑板，一边说一边给技术科内的所有人示意起大致原理。