第413章 我们就差这张牌了！

  多电子束写入机是一种用于高精度图案转移的先进半导体制造设备，通过使用多个电子束同时在晶圆上写入图案。

  梁孟松说的更常见一点的名词叫掩膜版，光透过掩膜版在硅片上印上图案，掩膜版的精度决定了硅片上集成电路的精度。

  用来制作掩膜版的机器就叫多电子束写入机，它一次只能制作一块掩膜版，适用于小批量、高复杂性的图案制造需求。

  总结来说，没有最先进的电子束写入机，就无法制造出用于生产最先进芯片的掩膜版。

  它是整个半导体制造产业链的“源头”，其战略重要性，丝毫不亚于euv光刻机本身。

  全球最先进的、用于euv级别的多电子束掩膜写入机，其市场被奥地利的ims nanofabrication公司，现已被英特尔绝对控股。

  另一家霓虹公司nuflare technology也在研发，但市场份额和技术应用广度上都有差距，这是东芝的子公司。

  国内的申海微电子旗下也有子公司在负责研发，但精度是90nm到65nm之间。

  无论是哪个技术路线的光刻机，都需要有掩膜版，在母版上面去印刷。

  会议室里，刚刚因数学突破而燃起的乐观气氛，瞬间被浇灭了。

  大家都是业内人士，很清楚梁孟松说的是事实。

  没有最顶尖的笔，再完美的设计图也只是一张废纸。

  林燃说：“这不是问题，我们虽然没有最先进的笔，但是有次一级的笔。”

  林燃看向台下的杨德人说道：“杨院士，你来说说吧。”

  随即把舞台交给杨院士。