第425章 90纳米製程的突破
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  “马总，这就是我们90纳米製程的实验线。目前，所有关键设备均已就位，並完成了初步集成与校准。”
  马宇腾的目光落在那台庞大的机器上，它被严密的防护罩包裹，占据了洁净室的核心位置。
  “这是浸没式光刻机？”马宇腾的声音透过口罩，略显低沉。
  他想起数月前，与张如晶商谈时的情景。
  “是的。”肖光楠回应。
  “它採用193纳米波长的深紫外线光源，通过在镜头与晶圆间填充纯水，有效提升了数值孔径，从而实现更小的曝光尺寸。”
  他指向机器侧面的显示屏，“您看，这是光刻机的工作状態参数。我们正在进行曝光测试。”
  显示屏上，数据流转，光束路径、曝光强度、晶圆定位精度，各项技术指標跃然眼前。
  “这台机器的精度，远超我们此前使用的乾式光刻机。”
  肖光楠继续说。
  “它的解析度能达到90纳米甚至更低。这是我们实现90纳米製程突破的关键。”
  马宇腾走到一台运行中的设备旁，一个机械臂正將一片晶圆送入设备內部。
  晶圆表面，在强光下泛著微光。
  “整个工艺流程，从晶圆清洗、涂胶、曝光、显影、刻蚀，再到离子注入和金属化，我们都进行了大量的优化和验证。”
  肖光楠说，“当前，良品率是最大挑战。实验阶段波动较大，但我们相信，隨著工艺的进一步成熟和参数的精细调整，很快就能达到稳定量產的要求。”